標題: 高度陣列式排列的氧化鋁-氧化鋅複合奈米線的製備方法
作者: 陳三元
蕭繼聖
公開日期: 1-Jan-2008
摘要: 本發明主要揭示了在一種高度陣列式排列的氧化鋁-氧化鋅複合奈米線的製備方法,其步驟至少包括:在鍍有氧化鋅薄膜的矽基板上,經由一種簡單的化學溶液法,在低溫(60-95�C)成長氧化鋅奈米線(或奈米柱),再經過浸入A1離子解膠水溶液,最後再置入氣氛爐中做快速熱處理退火。如此可得到具有單晶的wurtzite結構的氧化鋅奈米線陣列,由SEM分析可以得知,此複合奈米線直徑約為20-100nm。
官方說明文件#: C30B029/16
C30B029/60
H01L021/208
H01L021/368
H01L033/00
C09K011/54
C09K011/64
URI: http://hdl.handle.net/11536/104028
專利國: TWN
專利號碼: 200801263
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