薄膜式電磁線圈之製作方法

Abstract

本發明係提供一種薄膜式電磁線圈之製作方法，係利用原子力顯微鏡進行微影(Force Lithography)加工，製造具有奈米等級的電磁線圈，進而提高其磁場強度；其係利用原子力微影顯微技術於一薄膜基材上進行加工，使其呈現凹陷結構，再經由一微機電製程，形成一具有奈米等級、高磁場強度的薄膜式電磁線圈，以達到降低成本、提升電磁線圈效率之功能。