| 標題: | 砷化鎵元件背面銅金屬化之製作方法 |
| 作者: | 李承士 張翼 |
| 公開日期: | 16-一月-2005 |
| 摘要: | 本發明砷化鎵元件背面銅金屬化之製作方法,係將砷化鎵元件背面金屬化金屬由金改為銅,由於銅的阻值較低,且散熱與機械強度亦較金優異。因此,以銅作為金屬化金屬之元件,可改善元件的散熱、機械強度、導電度,更可增進元件的特性及可靠度。並藉由鎢(W)、氮化鎢(WN)、氮化鈦鎢(TiWN)等薄膜作為擴散阻障層,有效阻擋銅易擴散入砷化鎵基材而改變元件特性之問題。 |
| 官方說明文件#: | H01L021/203 H01L021/203 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/104281 |
| 專利國: | TWN |
| 專利號碼: | 200503078 |
| 顯示於類別: | 專利資料 |

