標題: | 控制包覆磁性材料之碳基奈米結構製程 |
作者: | 郭正次 林兆焄 駱安亞 駱伯遠 |
公開日期: | 1-七月-2004 |
摘要: | 本發明係一種控制包覆磁性材料之碳基奈米結構製程,係以電子迴旋共振微波電漿沉積法(化學氣相沉積法),成長包覆磁性材料之碳奈米結構及其後處理時,施以適當的磁場以改進磁性異向性;並以表面具有觸媒和添加物之基材通以直流偏壓源及加熱,做電漿前處理使進行基材表面蝕刻,再使反應氣體進行化學氣相沉積;藉此,達到控制奈米結構材料之尺寸、形狀、形成具方向性排列成長之奈米結構,可有效提高磁記憶媒體之紀錄密度,並具保護隔離效果以避免相互干擾,而且具磁異方性和矯頑磁力高的效果。 |
官方說明文件#: | C01B033/02 C23C016/02 C23C016/513 G11B005/00 C01B033/02 C23C016/02 C23C016/513 G11B005/00 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/104306 |
專利國: | TWN |
專利號碼: | 200410906 |
顯示於類別: | 專利資料 |