標題: 控制包覆磁性材料之碳基奈米結構製程
作者: 郭正次
林兆焄
駱安亞
駱伯遠
公開日期: 1-Jul-2004
摘要: 本發明係一種控制包覆磁性材料之碳基奈米結構製程,係以電子迴旋共振微波電漿沉積法(化學氣相沉積法),成長包覆磁性材料之碳奈米結構及其後處理時,施以適當的磁場以改進磁性異向性;並以表面具有觸媒和添加物之基材通以直流偏壓源及加熱,做電漿前處理使進行基材表面蝕刻,再使反應氣體進行化學氣相沉積;藉此,達到控制奈米結構材料之尺寸、形狀、形成具方向性排列成長之奈米結構,可有效提高磁記憶媒體之紀錄密度,並具保護隔離效果以避免相互干擾,而且具磁異方性和矯頑磁力高的效果。
官方說明文件#: C01B033/02
C23C016/02
C23C016/513
G11B005/00
C01B033/02
C23C016/02
C23C016/513
G11B005/00
URI: http://hdl.handle.net/11536/104306
專利國: TWN
專利號碼: 200410906
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