標題: | 半導體發光元件及其製作方法 |
作者: | 邱清華 黃泓文 郭浩中 盧廷昌 王興宗 賴志銘 |
公開日期: | 21-Nov-2011 |
摘要: | 一種半導體發光元件,包含一基板、一形成於該基板上的p型半導體層、一形成於該p型半導體層上的發光層,及一形成於該發光層上的n型半導體層;在該n型半導體層表面形成有多數個垂直於該基板方向且深度不小於0.2微米的奈米柱體。藉由加深該等奈米柱體的深度,可以改變該半導體發光元件的發光場型,而提昇該半導體發光元件的正向出光強度及發光效率。 |
官方說明文件#: | H01L033/00 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/106056 |
專利國: | TWN |
專利號碼: | I353068 |
Appears in Collections: | Patents |
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