利用控制偏振逐段曝照方法製作複雜的光纖光柵結構

Abstract

本發明係提出一製造複雜光纖光柵曝照系統及方法，係於相位光罩製程或雙光束干涉製程中，加入一可旋轉之1/2波片以及一偏振分光稜鏡來完成，並將感光性光纖放置於相對位移可以準確控制至奈米等級之位移平台上，藉此組合可以達到任意相位和折射率變化之複雜光纖光柵結構之製作。本發明之特點在於整個曝照過程只需一次連續移動即可完成，並且在完成複雜折射率變化之控制上更為準確及穩定。