統計資料
總造訪次數
檢視 | |
---|---|
利用多層堆疊氧化鉿/氧化鑭為閘極絕緣層以提升增強型氮化鎵金屬-絕緣體-半導體高電子遷移率電晶體起始電壓之穩定性 | 22 |
本月總瀏覽
六月 2024 | 七月 2024 | 八月 2024 | 九月 2024 | 十月 2024 | 十一月 2024 | 十二月 2024 | |
---|---|---|---|---|---|---|---|
利用多層堆疊氧化鉿/氧化鑭為閘極絕緣層以提升增強型氮化鎵金屬-絕緣體-半導體高電子遷移率電晶體起始電壓之穩定性 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 1 |
檔案下載
檢視 |
---|
國家瀏覽排行
檢視 | |
---|---|
美國 | 8 |
中國 | 5 |
台灣 | 3 |
日本 | 2 |
比利時 | 1 |
愛爾蘭 | 1 |
俄羅斯聯邦 | 1 |
縣市瀏覽排行
檢視 | |
---|---|
Menlo Park | 8 |
Beijing | 5 |
Taipei | 2 |
Brussel | 1 |