完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
---|---|---|
dc.contributor.author | 謝漢萍 | en_US |
dc.contributor.author | 劉柏村 | en_US |
dc.contributor.author | 蔡韻竹 | en_US |
dc.contributor.author | 蔡旻諺 | en_US |
dc.contributor.author | 鄧立峯 | en_US |
dc.date.accessioned | 2015-12-04T07:03:28Z | - |
dc.date.available | 2015-12-04T07:03:28Z | - |
dc.date.issued | 2015-09-11 | en_US |
dc.identifier.govdoc | H01L031/10 | zh_TW |
dc.identifier.govdoc | H01L029/78 | zh_TW |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/128776 | - |
dc.description.abstract | 一種薄膜電晶體,包括:一透明基板:一閘極,該閘極設置於該透明基板上,其中該閘極之材料係由銦錫氧化物(ITO,Indium tin oxide)、銦鋅氧化物(IZO,indium zinc oxide),摻雜鋁之氧化鋅(AZO,Al-doped ZnO),銅(Cu),銀(Ag),鋁(Al)以及鉬(Mo)所組成之族群中所選出;一閘絕緣層,該閘絕緣層設置在該閘極上及該透明基板上,其中該閘絕緣層之材料係由氧化鉬鋅(Mo-Zn-O)以及氧化鋯鋅(ZrZnO)所組成之族群中所選出;一半導體主動層,該半導體主動層設置在該閘絕緣層上,其中該半導體主動層之材料係由氧化鋅(ZnO),氧化銦(In2 O3 ),ZTO,IGO,IZTO,AZTO以及HIZO所組成之族群中所選出;一電極層,該電極層設置在該半導體主動層上且曝露出部份該半導體主動層,其中該電極層之材料係由銦錫氧化物(ITO,Indium tin oxide),銦鋅氧化物(IZO,indium zinc oxide),摻雜鋁之氧化鋅(AZO,Al-doped ZnO),銅(Cu),銀(Ag),鋁(Al)以及鉬(Mo)所組成之族群中選出;以及一紫外光吸收層,設置在該半導體主動層上,其中該紫外光吸收層係由氧化鉬鋅(Mo-Zn-O)以及氧化鋯鋅(ZrZnO)所組成之族群中所選出。 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.title | 具紫外光吸收層之薄膜電晶體 | zh_TW |
dc.type | Patents | en_US |
dc.citation.patentcountry | TWN | zh_TW |
dc.citation.patentnumber | I500179 | zh_TW |
顯示於類別: | 專利資料 |