超低介電碳氮化矽薄膜之研究

標題:	超低介電碳氮化矽薄膜之研究 Fabrication and Development of Ultra-Low-K Silcion Carbonitride Films
作者:	呂志鵬 Leu Jihperng 國立交通大學材料科學與工程學系（所）
公開日期:	2015
官方說明文件#:	MOST103-2221-E009-181-MY3
URI:	http://hdl.handle.net/11536/130507 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=11265363&docId=453651
顯示於類別：	研究計畫