統計資料
總造訪次數
| 檢視 | |
|---|---|
| Reliability study of high-k La2O3/HfO2 and HfO2/La2O3 stacking layers on n-In0.53Ga0.47As metal-oxide-semiconductor capacitor | 1 |
本月總瀏覽
| 六月 2024 | 七月 2024 | 八月 2024 | 九月 2024 | 十月 2024 | 十一月 2024 | 十二月 2024 | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Reliability study of high-k La2O3/HfO2 and HfO2/La2O3 stacking layers on n-In0.53Ga0.47As metal-oxide-semiconductor capacitor | 0 | 0 | 0 | 0 | 1 | 0 | 0 |
檔案下載
| 檢視 |
|---|
國家瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| 中國 | 1 |
縣市瀏覽排行
| 檢視 | |
|---|---|
| Shenzhen | 1 |