| 標題: | 低溫非晶態鎢摻雜氧化銦薄膜電晶體技術之研究 Study on Low Temperature Amorphous Tungsten doped Indium Oxide Thin Film Transistor Technology |
| 作者: | 陳柏文 劉柏村 Chen, Po-Wen Liu, Po-Tsun 光電工程研究所 |
| 關鍵字: | 薄膜電晶體;銦鎢氧;銦鎵鋅氧;保護層;低溫製程;thin film transistor;IWO;IGZO;passivation;low-temperature |
| 公開日期: | 2016 |
| URI: | http://etd.lib.nctu.edu.tw/cdrfb3/record/nctu/#GT070350521 http://hdl.handle.net/11536/139889 |
| 顯示於類別： | 畢業論文 |
- 保護層應用在非晶態銦鎵鋅氧薄膜電晶體 之電性物理機制研究 / 張耿維;Chang, Geng-Wei;戴亞翔;張鼎張;Tai, Ya-Hsiang
- 利用大氣壓電漿輔助化學氣相沉積製備不同比例之銦鎵鋅氧薄膜電晶體與雷射退火處理之電性研究 / 陳健源;Chen, Chien-Yuan;張國明;Chang, Kow-Ming
- 氧氣控制、快速熱退火與其他元素摻雜對於銦鎵鋅氧薄膜電晶體的影響 / 吳宏基;Wu, Hung-Chi;簡昭欣;Chien, Chao-Hsin
- 非晶態氮摻雜氧化銦鎵鋅薄膜電晶體特性之研究 / 廖于德;Liao, Yu-Tei;施敏;劉柏村;Sze, Min
- Low Thermal Budget Amorphous Indium Tungsten Oxide Nano-Sheet Junctionless Transistors with Near Ideal Subthreshold Swing / Kuo, Po-Yi;Chang, Chien-Min;Liu, Po-Tsun
Loading...