統計資料

總造訪次數

檢視
利用低損傷中性粒子束蝕刻的方式製作出高起始電壓低磁滯的掘入式閘極增強型氮化鎵金屬-絕緣體-半導體高電子遷移率高功率電晶體 5

本月總瀏覽

六月 2025 七月 2025 八月 2025 九月 2025 十月 2025 十一月 2025 十二月 2025
利用低損傷中性粒子束蝕刻的方式製作出高起始電壓低磁滯的掘入式閘極增強型氮化鎵金屬-絕緣體-半導體高電子遷移率高功率電晶體 0 0 0 0 0 2 0

檔案下載

檢視

國家瀏覽排行

檢視
中國 1
德國 1
祕魯共和國 1
美國 1

縣市瀏覽排行

檢視
Buffalo 1
Shanghai 1