半導體裝置結構

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本揭露提供半導體裝置結構與其形成方法。半導體裝置結構包括源極結構於半導體基板中。半導體裝置結構亦包括通道層於半導體基板上。通道層的第一部份覆蓋部份源極結構。通道層的第二部份橫向地延伸出源極結構。半導體裝置結構更包括汲極結構於半導體基板上。汲極結構與源極結構具有不同的導電型態。汲極結構鄰接通道層的第二部份。

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