标题: 适应性干扰观测器于半导体制造之批次控制
An Adaptive Disturbance Observer in Run-to-Run Control for Semiconductor Manufacturing Processes
作者: 陈鼎凯
李安谦
机械工程学系
关键字: 批次控制;干扰观测器;适应性控制;黄光制程;覆盖误差;Run-to-Run Control;EWMA;Double EWMA;PCC;Disturbance Observer;Adaptive Control;photolithography;Overlay Error
公开日期: 2007
摘要: 近年来,批次控制技术已被充分地发展并且应用于半导体制造过程中,以维持制程水准并改善产品的良率。在这些批次控制之中,EWMA控制器、double EWMA控制器和PCC控制器在线上批次估测中已是被常使用的方法。但是,制程输出在选择不适当的批次控制器参数下,反而会有负面的效果。特别是当系统存在模型误差和环境上有扰动时,一般批次控制器可能无法有令人满意的性能效果。
本论文的主要目的是提出动态调变的控制结构,具有动态调整系统参数的能力。在此控制结构里主要有二种控制机制: 干扰观察器(DOB) 和参数调整律。本文将此控制架构命名为适应性干扰观察器,该控制架构具有排除制程干扰与减少系统模型误差之能力,并使系统输出达到所期望之效能。适应性干扰观察器不仅能补偿制程上常见的位移和漂移干扰, 而且能处理随机和自相关的干扰模型。藉由确定性及随机性之Lyapunov定理证明估计参数的收敛特性。并且探讨所提出的适应性方法在不同干扰模型之下,系统参数之收敛性-收敛或是接近至最佳值。模拟结果显示所提出的控制方法,相较于固定参数的批次控制,对不同干扰模型系统效能改善12%~23%。最后,利用黄光制程用以验证本论文所提出的控制架构。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT009514610
http://hdl.handle.net/11536/38604
显示于类别:Thesis