標題: 利用間質隔離法研究CS2與Cl2在para-H2間質中的雷射光解反應
Reactions between CS2 and Cl2 in para-H2 after Photoirradiation upon Matrix Isolation Method
作者: 黃瓊緯
Huang, Chiung-Wei
李遠鵬
Lee, Yuan-Pern
應用化學系碩博士班
關鍵字: 氯氣;二硫化碳;間質隔離;紅外吸收光譜;chlorine;carbon disulfide;matrix isolation;infrared spectra
公開日期: 2008
摘要: 本論文利用低溫間質隔離技術搭配霍氏轉換紅外光譜儀(FTIR)研究CS2與Cl2在para-H2(p-H2)間質中的雷射光解反應。利用p-H2間質的無晶格效應,以340 nm光解Cl2產生的Cl原子和CS2形成ClSCS,接著觀察到此產物在355 nm光解光源時如預期地減少,並以34S和13C同位素取代實驗及理論計算的配合鑑定此分子的ν1振動模吸收頻率。由355 nm造成的光解產物可再經由不同反應途徑形成其他產物,如本實驗也觀察到ClCS和trans-Cl2CS2。另外,cis-Cl2CS2只有在以308 nm雷射光解樣品間質時生成。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT079658508
http://hdl.handle.net/11536/43567
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