光學膜片紫外光固化轉寫成形之有限元素分析研究

Abstract

本論文針對光學膜片紫外光固化轉寫成形技術與公差，進行有限元素數值模擬研究。首先透過各項UV膠固化及轉寫實驗，了解UV膠在微米尺度下之流動特性以及固化後之轉寫精度；在進行轉寫實驗的同時，亦測量了UV膠固化放熱以及紫外光曝光之溫度效應。其次建立了與轉寫實驗裡翻鑄鎳膜仁相同微結構尺寸，以及相同UV膠塗佈厚度之網格模型，再依所量得溫度，合理的給定溫度邊界條件，進行有限元素熱傳分析，以求得紫外光固化過程中，模仁以及UV膠的溫度場分佈。獲得此結果後，即可進行紫外光固化轉寫成形之熱變形模擬分析，求得翻鑄鎳模仁以及UV膠熱變形分佈結果及轉寫之公差。 經過一連串的膜片轉寫實驗以及製程模擬，證明了熱變形有限元素分析應用在此製程設計上的可行性。