蒸鍍在焦電材料PZT 基座上Te 薄膜特性之研究

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	楊立昌	en_US
dc.contributor.author	Yang, Li-Chang	en_US
dc.contributor.author	謝正雄	en_US
dc.contributor.author	Xie, Zheng-Xiong	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-12T02:01:53Z	-
dc.date.available	2014-12-12T02:01:53Z	-
dc.date.issued	1980	en_US
dc.identifier.uri	http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT694123007	en_US
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/51308	-
dc.description.abstract	本文研究蒸鍍在PZT 與玻璃基座上Te薄膜的特性。測量Te薄膜的導電性與霍爾效應我們觀察Te薄膜電的特性, 并利用10.6μm 的CO 雷射觀察PZT 的焦電效應, 我們提出一簡單模型解釋該現象。	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.subject	蒸鍍	zh_TW
dc.subject	焦電材料	zh_TW
dc.subject	基座上	zh_TW
dc.subject	薄膜特性	zh_TW
dc.subject	焦電效應	zh_TW
dc.subject	光電學	zh_TW
dc.subject	光學	zh_TW
dc.subject	雷射學	zh_TW
dc.subject	光電工程	zh_TW
dc.subject	PET	en_US
dc.subject	TE	en_US
dc.subject	ELECTRO-OPTICS-ENGINEERING	en_US
dc.subject	OPTICS	en_US
dc.subject	LASER	en_US
dc.subject	OPTI-ELECTRONIC-ENGINEERING	en_US
dc.title	蒸鍍在焦電材料PZT 基座上Te 薄膜特性之研究	zh_TW
dc.type	Thesis	en_US
dc.contributor.department	光電工程學系	zh_TW
顯示於類別：	畢業論文