標題: | 超大型積體電路中小埋層通道金氧半場效應電晶體的模式 |
作者: | 蔡添壽 Cai, Tian-Shou 吳慶源 Wu, Qing-Yuan 電子研究所 |
關鍵字: | 超大型積體電路;積體電路;電路;金氧半場效應;電經體;臨界電壓模式;元件;電子工程;ELECTRONIC-ENGINEERING |
公開日期: | 1982 |
摘要: | 本文主旨在於,發展一小埋層通道金氧半場效應電晶體的確模式,以供實用。本文分 為兩大部份,一為臨界電壓模式;一為電流電壓輸出特性模式。 一些新的觀念被用在模式裡面。如臨界電壓模式的推導裹面,我們用了新的元件構造 觀念。另外在電流電壓輸出的特性模擬裹,用了新的移動率公式。由實驗禾模擬的結 果顯示,這些觀念被證實具有創意,而且使模式簡單容易了解。實驗和模擬的符合, 今人滿意。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT714428010 http://hdl.handle.net/11536/51730 |
顯示於類別: | 畢業論文 |