標題: | N型銻化銦霍爾效應與磁阻之研究 |
作者: | 廖炳坤 LIAO, BIN-KUN 吳啟宗 WU, GI-ZONG 光電工程學系 |
關鍵字: | 銻化銦;霍爾效應;磁阻;磁場;N型銻化銦 |
公開日期: | 1985 |
摘要: | 本文主要討論n 型銻化銦低溫高磁場下,霍爾係數及磁阻的變化。由於我們對於低頻 和高頻範圍非常感興趣,電子被離子化雜質散射效應不可忽略。另有兩種效應本身已 存在壓電半導體:聲子作用及壓電效應。我們主要討論在這三種散射效應存假設在下 ,俱有某種數學形式,並利用數值計算預測n 型銻化銦在聲子作用下,其霍爾係數、 霍爾角度及磁阻隨著溫度、磁場改變的情形。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT742123001 http://hdl.handle.net/11536/52297 |
顯示於類別: | 畢業論文 |