標題: | 氧化銦錫薄膜之電解質電反射及電解質電穿透光譜 |
作者: | 李欣諭 LI, XIN-YU 郭義雄 溫增明 GUO, YI-XIONG WEN, ZEN-MING 光電工程學系 |
關鍵字: | 氧化銦錫;薄膜;電解質;電反射;電穿透;光譜 |
公開日期: | 1985 |
摘要: | 以電解質電反射的方法研究氧化銦錫薄膜之特性,發現與其他半導體(例如矽、砷化 鎵)不同的結果,在大約3.8eV有一個寬大的峰。另外並測試電言質電穿透光譜也 在3.8eV附近發現一個峰,但另有兩個小的峰出現在上面,據猜測是由氧化銦錫中 的雜質能帶所引起的分裂。同一氧化銦錫樣品的反射光譜在電解電反射光譜出現峰值 的光波長有一個極小道。論文中並討論氧化銦錫薄膜樣品之介電常數改變量與光學特 性的關係。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT742123020 http://hdl.handle.net/11536/52318 |
顯示於類別: | 畢業論文 |