完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
---|---|---|
dc.contributor.author | 彭瑞焜 | en_US |
dc.contributor.author | PENG, RUI-KUN | en_US |
dc.contributor.author | 吳慶源 | en_US |
dc.contributor.author | WU, GING-YUAN | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-12T02:03:59Z | - |
dc.date.available | 2014-12-12T02:03:59Z | - |
dc.date.issued | 1985 | en_US |
dc.identifier.uri | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT742507018 | en_US |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/52660 | - |
dc.description.abstract | 本篇論文以數值方法分析金氧半場效電晶體(以下簡稱電晶體)的特性。本文將詳細 推導出半導體基本方程的有限差分方程式,並且將此方程式應用在電晶體上。這組有 限差分方程式包含非線性和線性的大型方程式。為了節省計算機的記憶空間,我們用 牛頓-逐次超鬆散法和行逐次超鬆散法解出非線性及線性方程組的近似解。最後利用 所得出的數值解討論通道長為1 微米和1.35微米電晶體的物理性質,包括臨界電壓和 穿透現象等等。我們根據數值結果和圖例證明了本文所描述的方法是可行的,並且可 以將它發展應用到實際的電晶體上。 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.subject | 短通道 | zh_TW |
dc.subject | 金氧半場效 | zh_TW |
dc.subject | 電晶體 | zh_TW |
dc.subject | 二維空間 | zh_TW |
dc.subject | 數值方法 | zh_TW |
dc.subject | 半導體 | zh_TW |
dc.subject | 牛頓逐次趨鬆散法 | zh_TW |
dc.subject | 行逐次超鬆散法 | zh_TW |
dc.title | 短通道金氧半場效電晶體之二維空間數值分析 | zh_TW |
dc.type | Thesis | en_US |
dc.contributor.department | 應用數學系所 | zh_TW |
顯示於類別: | 畢業論文 |