完整後設資料紀錄
| DC 欄位 | 值 | 語言 |
|---|---|---|
| dc.contributor.author | 駱漢聲 | en_US |
| dc.contributor.author | LUO, HAN-SHENG | en_US |
| dc.contributor.author | 邱碧秀 | en_US |
| dc.contributor.author | GIU, BI-XIU | en_US |
| dc.date.accessioned | 2014-12-12T02:04:28Z | - |
| dc.date.available | 2014-12-12T02:04:28Z | - |
| dc.date.issued | 1986 | en_US |
| dc.identifier.uri | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT752430066 | en_US |
| dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/52970 | - |
| dc.description.abstract | 本文，研究鋁矽接觸反應及鋁／鎢／矽化鉑接觸系統中鎢礦散屏障層的有效性。實驗 結果顯示，鋁／矽化鉑接觸在經過３５０℃，１５分鐘的退火後，接觸反應即會發生 。鎢礦散屏障層能有效地提高接觸穩定度，使得此三層結構鋁／鎢／矽化鉑接觸系統 ，經過５００℃，４小時的退火後，依然保持良好特性。 由本文結果，可得知鋁／鎢／矽化鉑接觸系統，且有高蕭特基能障，低接觸電阻，及 對熱有高穩定度等優點，且其對淺接面無不良影響，能有效解決傳統中，單用鋁做接 觸的缺點。 | zh_TW |
| dc.language.iso | zh_TW | en_US |
| dc.subject | 鋁矽化鉑 | zh_TW |
| dc.subject | 鎢薄膜 | zh_TW |
| dc.subject | 阻隔效應 | zh_TW |
| dc.subject | 接觸反應 | zh_TW |
| dc.subject | 鎢礦散屏障層 | zh_TW |
| dc.subject | 退火 | zh_TW |
| dc.subject | 高蕭特基能障 | zh_TW |
| dc.title | 鋁矽化鉑接觸及鎢薄膜之阻隔效應 | zh_TW |
| dc.type | Thesis | en_US |
| dc.contributor.department | 電子研究所 | zh_TW |
| 顯示於類別： | 畢業論文 | |
