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dc.contributor.author趙樹聖en_US
dc.contributor.authorZHAO, SHU-SHENGen_US
dc.contributor.author吳重雨en_US
dc.contributor.authorWU, CHONG-YUen_US
dc.date.accessioned2014-12-12T02:05:03Z-
dc.date.available2014-12-12T02:05:03Z-
dc.date.issued1987en_US
dc.identifier.urihttp://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT762430031en_US
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/53416-
dc.description.abstract本文研究通道離子佈植濃度對通道內載子分佈之關係,並將這種關係引進通道內載子
遷移率的理論模式內,可以得到一個較完整和準確的載子遷移率計算模式。同時也研
究離子佈植濃度對載子遷移率的最佳化分佈,藉此而得到較高的載子遷移率。實驗結
果顯示修正後的載子遷率模式,與測量的數值誤差在百分之三以內。
此外,本文也提出一種新的尺度縮小法則,並且利用修正後的載子遷移率模式評估元
件尺度縮小後,傳統的縮小法則-等電場,等電壓及準等電壓三種與新的尺度的縮小
法則載子遷移率與飽合電流的差異。最後並以持續合成與分析(TISA)之電路分析程
式證實新的尺度縮小法則具有較快的速度表現,可以滿足高速互補式金氧半元件的設
計要求。
zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.subject互補式金氧半元件zh_TW
dc.subject通道離子zh_TW
dc.subject佈值濃度zh_TW
dc.subject載子遷移率zh_TW
dc.subject等電場zh_TW
dc.subject等電壓zh_TW
dc.subject準等電壓zh_TW
dc.title高速互補式金氧半元件之設計考慮zh_TW
dc.typeThesisen_US
dc.contributor.department電子研究所zh_TW
顯示於類別:畢業論文