完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
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dc.contributor.author | 趙樹聖 | en_US |
dc.contributor.author | ZHAO, SHU-SHENG | en_US |
dc.contributor.author | 吳重雨 | en_US |
dc.contributor.author | WU, CHONG-YU | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-12T02:05:03Z | - |
dc.date.available | 2014-12-12T02:05:03Z | - |
dc.date.issued | 1987 | en_US |
dc.identifier.uri | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT762430031 | en_US |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/53416 | - |
dc.description.abstract | 本文研究通道離子佈植濃度對通道內載子分佈之關係,並將這種關係引進通道內載子 遷移率的理論模式內,可以得到一個較完整和準確的載子遷移率計算模式。同時也研 究離子佈植濃度對載子遷移率的最佳化分佈,藉此而得到較高的載子遷移率。實驗結 果顯示修正後的載子遷率模式,與測量的數值誤差在百分之三以內。 此外,本文也提出一種新的尺度縮小法則,並且利用修正後的載子遷移率模式評估元 件尺度縮小後,傳統的縮小法則-等電場,等電壓及準等電壓三種與新的尺度的縮小 法則載子遷移率與飽合電流的差異。最後並以持續合成與分析(TISA)之電路分析程 式證實新的尺度縮小法則具有較快的速度表現,可以滿足高速互補式金氧半元件的設 計要求。 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.subject | 互補式金氧半元件 | zh_TW |
dc.subject | 通道離子 | zh_TW |
dc.subject | 佈值濃度 | zh_TW |
dc.subject | 載子遷移率 | zh_TW |
dc.subject | 等電場 | zh_TW |
dc.subject | 等電壓 | zh_TW |
dc.subject | 準等電壓 | zh_TW |
dc.title | 高速互補式金氧半元件之設計考慮 | zh_TW |
dc.type | Thesis | en_US |
dc.contributor.department | 電子研究所 | zh_TW |
顯示於類別: | 畢業論文 |