標題: | 化學濕式合成PLZT陶瓷體之微細結構及電氣表徵 |
作者: | 郭俊男 GUO, JUN-NAN 邱碧秀 QIU, BI-XIU 電子研究所 |
關鍵字: | 化學濕式合成;合成;陶瓷;結構;電氣;光電材料;材料;繞結方法;SYNTHESIS;CERAMICS;STRUCTURE;ELECTRIC;MATERIAL;TWO-STAGE-SINTERING |
公開日期: | 1988 |
摘要: | 由於PLZT陶瓷體所具有的高度透光性,使得PLZT陶瓷體成為一種很有用的光 電材料,而且由於它具有相當高的介電係數,使得PLZT陶瓷體在電容的應用上也 相當受到矚目。但是傳統的氧化物混合法所製造出來的PLZT陶瓷體,在成份上及 結構上的均勻度不好,影響了PLZT陶瓷體在光學及電性應用上的性質。於是,各 種化學濕式合成方法,例如利用alkoxides的水解,以及硝酸鹽水溶液的共 沈法等,均被廣泛地研究來改進氧化物混合法的缺點。使用化學濕式合成法所合成的 PLZT陶瓷體具有比較高的純度以及均勻度。 本實驗中,利用溶液膠結法以及水溶液乾噴法等兩種化學濕式合成方法來製造PLZ T陶瓷粉末,並將其燒結後,測量及觀察它在電性以及光學上的性質。化學濕式法所 合成9/65/35成份的PLZT陶瓷粉末在富含氧化鉛(Pbo)的環境下,以 1250℃的溫度燒結,並使用兩階段的繞結方法(two-stage sint ering)加以燒結。利化學濕式合成法所製造出來的PLZT陶瓷粉末,其顆粒 大小在0•1微米(μm)至0•2微米之間,大約只有傳統氧化物混合法所得粉末 的四分之一左右。 化學濕式合成的PLZT陶瓷體,在電性方面,常溫下即具有相當高的介電係數(超 過3000)以及合理的低介電損耗(大約4%左右),比氧化物混合法所得的結果 (介電係數2500,介電損耗6%)要來得好。而光學性質方面。厚度為1毫米( 1mm)的PLZT陶瓷體在波長為8000埃(8000A)的光線下,對光線具 有24%的透光率。而此化學濕式合成之PLZT陶瓷體對光線穿透的截止波長約為 4000埃,比氧化物混合法所得的截止波長5000埃要來得短,這是因為化學濕 式合成法所得的PLZT陶瓷體雜質較少,純度較高的緣故。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT772430023 http://hdl.handle.net/11536/53887 |
顯示於類別: | 畢業論文 |