標題: 鉻輿鈦鎢擴散障壁對N型砷化鎵熱穩定歐姆接觸之影響
作者: 黃健銘
HUANG,JIAN-MING
雷添福
陳茂傑
張振雄
LEI,TIAN-FU
CHEN,MAO-JIE
ZHANG,ZHEN-XIONG
光電工程學系
關鍵字: 鉻;鈦鎢;N型砷化鎵;熱穩定;歐姆接觸;擴散障壁;熱處理;穩定性;TLM
公開日期: 1989
摘要: 本論文對N 型砷化鎵歐姆接觸做了各種組成的電性及微細結構上的研究,這些組成包 含了以下的型式:Au/Ge/GaAs,Au/Pt/Ge/GaAs,Au/Cr/Ge/GaAs,及Au/Ti/W/Au/Ge/ GaAs。其中介于於上層Au及下層Au/Ge 之間的Cr和TiW 主要是扮演擴散障壁的角色, 為了比較起見,夾Pt以及不夾任何中間層的結構也同時研究。 電性方面的量測是採用標準TLM 方法,為了進一步了解各種歐姆接觸的熱穩定性,我 們也做了長時間處理測試,實驗結果顯示Au/Ti/W/Au/Ge 結構不需要很嚴格的熱處理 條件即可得到較低的接觸電阻,較好的表面,且最穩定。而 Au/Cr/Au/Ge結構的接觸 電阻也很低,但是它的表面及熱穩定性都較差。另一接觸結構 Au/Pt/Au/Ge有很平滑 且均勻的表面,但是唯有熱處理的時間較長, 溫度較高, 此結構的接觸電阻才會較低 , 而它的熱穩定性也比夾擴散障壁的結構差。至於不夾任何中間層的結構 Au/Ge,它 的電性及物性都是所有結構中最差的。 另一方面,穿透式電子顯微鏡,X 光繞射用Auaer 表面分析被嘗試用來解釋本實驗的 電性結果。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT782123027
http://hdl.handle.net/11536/54354
顯示於類別:畢業論文