标题: | 积体电路中电子迁移现象之分析 Modeling of electromigration phenomena in integrated circuits |
作者: | 苏琮凯 SU, ZONG-KAI 汪大晖 WANG, DA-HUI 电子研究所 |
关键字: | 积体电路;电子迁移现象 |
公开日期: | 1991 |
摘要: | 本文主要目的在于研究焦耳热效应对于积体电路中电子迁移现象的影响。我们利用 有限元素法解出二维的热传导方程式,由此得到温度与电流驱动条件与几何结构对 焦耳加热的效应。再则,基于Nikawa的电子迁移模型加以修改得到一个开路破坏模 式,修改内容包括(i)二维晶界网状结构与(ii)接线中圆柱形裂缝和焦耳加 热模型。 由金属接线平均温度之计算值与实验值的高度符合,焦耳加热模型得到验证。根据 我们研究显示上升温度主要由穿透氧化层到基底的横向热流决定,而此热流又因消 耗功率与流向接触砌合垫之纵向热流所控制。此外,发现平均上升温度分别与金属 厚度、氧化层厚度及环境温度有着线性关系。最大温度梯度发生于金属线与砌合垫 连接处,它和以上三种因素的关系与平均上升温度相似。既然可以证明电流密度与 平均上升温度和最大温度梯度都有平方关系,我们的模型因此能预测原子流发散最 严重的地方。 由修改的电子迁移模型,我们比较金属线断线时间之模拟值与实验值并研究金属线 宽度与驱动条件对断线时间的影响。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT802430009 http://hdl.handle.net/11536/56039 |
显示于类别: | Thesis |