標題: Diamond deposition and effect of adding hydrogen in C□H□-CO□ mixture by MPCVD
作者: 李鴻生
Li, Hong-Sheng
陳家富
Chen, Jia-Fu
材料科學與工程學系
關鍵字: 鑽石合成;氣相沈積法;材料科學;物理;DIAMOND-DEPOSITION;MPCVD;MATERIALS-SCIENCE;PHYSICS
公開日期: 1991
摘要: 近來,我們致力於尋找能成長鑽石的新氣體源之際,發現不需加入大量氫氣也能合 成鑽石之氣體源。本研究採用微波電漿化學氣相沈積法。首先探討以CO□替代大量 氫氣的添加,嘗試以丙烷+二氧化碳作為反應氣體源,來合成鑽石的可能性和薄膜 的成長速率及析出物的表面形態,其次是探討在丙烷+二氧化碳系中添加微量的氫 氣,對合成鑽石的影響。 實驗結果顯示,使用CO□取代大量氫氣時,可以得到高品質的鑽石。並且可提高成 長速率生成的鑽石晶體為星形銳角多結晶體。在溫度 840℃時,丙烷+二氧化碳系 中鑽石薄膜的最大成長速率為 2.2μm/hr。這個值大約是在相同溫度下,丙烷+氫 系鑽石成長速率的一倍。反應溫度在 920℃時,可得最大成長速率,此時鑽石薄膜 的成長速率約可達 2.7μm/hr。當添加微量的氫氣時,鑽石的品質隨著氫氣的添加 量而逐漸變差,顯示除了碳氫化合物之微量氫氣之外,不需要添加額外的氫氣,即 能合成高品質的鑽石薄膜。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT804058001
http://hdl.handle.net/11536/56402
顯示於類別:畢業論文