利用即時功率監測裝置作半導體雷射低反射率(10 )膜之實驗及理論

Abstract

在許多光電元件上，半導體雷射之抗反射膜扮演重要角色。在本論文中，我們做了 半導體雷射抗反射膜之研究，包含數值計算及實驗。數值計算提供抗反射膜折射率 及厚度的訊息。在實驗上，我們使用熱蒸鍍機蒸鍍氧化矽(SiO□) 。為了得到較理 想的折射係數，可以經由改變真空室的氧含量而改變膜的折射係數。在蒸鍍過程中 ，雷射的偏壓高於臨界電流，光二極體放置於雷射附近用來接收雷射發出之光，反 射率的訊息可經由雷射光大小得知，其原因是經由分析速率方程式而知。實驗的結 果與數值計算是一致的。