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dc.contributor.author林秋旭en_US
dc.contributor.authorChiu-Hsu Linen_US
dc.contributor.author曲新生en_US
dc.contributor.authorHsin-Sen Chuen_US
dc.date.accessioned2014-12-12T02:12:38Z-
dc.date.available2014-12-12T02:12:38Z-
dc.date.issued1993en_US
dc.identifier.urihttp://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT820489060en_US
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/58361-
dc.description.abstract在熱傳輻射系統□,薄膜內的熱傳現象是近年來新興的主題之一,而探討 微結構組織下的熱傳機制更是許多學者所樂於挑戰的。本文以電磁波理論 出發,利用光學中之光線追蹤法 ( Ray- tracing method )來描述薄膜系 統內的輻射性質;於薄膜系統中考慮了輻射波的干涉效應以因應微小尺度 之熱傳現象,並探討微結構組織下的熱輻射性質。本文第一部份以SiO_2 與 YBa_2Cu_3O_6/LaAlO_3為研究對象探討其在不同的厚度之下,考慮干 涉效應與不考慮干涉效應的輻射性質差異。分析的結果顯示,SiO_2材料 在厚度小於 10微米以下即成為微結構狀態,不再適用於巨觀之熱傳理論 。此外,增加薄膜之輻射入射角度則將提升了薄膜系統的反射率;相對地 ,也將降低系統中的穿透率。第二部份則以傅氏紅外光譜儀來量測$YBCO$ 高溫超導薄膜的輻射特性。結果顯示薄膜厚度很大時,系統之穿透率將減 小;而當薄膜厚度很小時,薄膜系統之反射率主要由基板的輻射性質來主 導。zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.subject薄膜,干涉效應,輻射性質zh_TW
dc.subjectThin films,interference effects,radiative propertiesen_US
dc.title薄膜內具干涉效應之熱輻射性質研究zh_TW
dc.titleThermal Radiative Properties in Thin Films with Interference effectsen_US
dc.typeThesisen_US
dc.contributor.department機械工程學系zh_TW
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