自動化光學鄰近效應修正

Abstract

在本論文中我們發展了一套完整的光學投影系統模擬程式，可以針對不 同的光罩圖形、光源的波長和部份同調性以及不同的透鏡ＮＡ值來計算成 像在晶片上的光場圖形。我們也研究了利用預先修正光罩來減少光學鄰近 效應的各種方法，並引進誤差圖形的概念，然後利用程式模擬來得出最佳 化的光罩修正圖形，使得成像的圖形能更接近我們想要的形狀，最後達到 自動化光學鄰近效應修正的目標。 In the thesis we develop a computer simulation program that can simulate the projected patterns of optical projection with different optical wavelengthes and spatial coherence of the light source and different NA values of the projection lens.We also investigate methods of optical proximity correction by pre- modifying the mask patterns.The concept of error-pattern is introduced and an iteratively computer algorithm is developed to automatically generate the optimum pre-modified mask patterns.