金屬層間介電層和複晶矽介電層之研究及其對深次微米元件之影響

完整後設資料紀錄

DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	林友民	en_US
dc.contributor.author	雷添福	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-12T02:18:23Z	-
dc.date.available	2014-12-12T02:18:23Z	-
dc.date.issued	1996	en_US
dc.identifier.uri	http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#NT856430122	en_US
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/62559	-
dc.language.iso	en_US	en_US
dc.title	金屬層間介電層和複晶矽介電層之研究及其對深次微米元件之影響	zh_TW
dc.title	= Study of intermetal and interpoly-silicon dielectrics processes and their impacts on deep-submicron MOSFETs	en_US
dc.type	Thesis	en_US
dc.contributor.department	電子研究所	zh_TW
顯示於類別：	畢業論文