以金屬催化形成矽抗反射層及應用於異質接面太陽能電池

Abstract

在替代能源日漸重要的今日，發展太陽能電池並將其效率提升到可量產階段是所有人共同努力的目標。以矽為基板的電池中，因為反射率在30~40%，因此本文著重在表面做出抗反射層來降低反射並提高光電流是一個簡單且有效的方法。 根據2013年Kobayashi團隊所發表的SSCT(Surface Structure Chemical Transfer Method)方法，將滾筒狀的鉑金屬快速滾過浸泡在HF/H2O2的矽基板中，可以有效的降低反射率，我們將其應用於有機/無機異質接面太陽能電池上，並期望可藉由低反射率得到高的光電流，最終可以提升電池效率。 在本文中，我們使用銀與鉑做出三種搭配的催化金屬，成功的利用SSCT方法有效的降低矽基板表面的反射率。催化蝕刻後的矽基板表面起伏很小，但反射率卻可以降低到5%，這是由於在表面形成的奈米晶矽會有漸變的折射係數，使得反射率大幅的下降。但電池效率在降低反射率的同時也增加了缺陷密度，因此並沒有顯著的提升。