標題: 850 nm 氧化侷限穩態單模的面射型雷射之特性模擬及模態分析
Characteristics Simulation and Mode Analysis of 850-nm Oxide-Confined and Stable Single-Mode VCSELs
作者: 黃淼松
楊賜麟
電子物理系所
關鍵字: 面射型雷射;布拉格反射鏡;穩態單模;VCSEL;DBR;stable single mode
公開日期: 2004
摘要: 本論文利用ISE_TCAD軟體來模擬分析850 nm氧化侷限面射型雷射的L-I-V的基本特性。我們針對不同氧化侷限孔徑尺寸,計算出面射型雷射的各個橫向光學模態在共振腔中的分佈情形。當孔徑縮小到一定尺寸時,元件只具有單一的基模。我們分析各模態下的電流及載子分佈的關聯性,用以解釋元件在單模操作下的空間燒洞(hole burning)效應。 另外,我們模擬分析以局部擴散的方式來降低局部區域共振腔的反射率,而提高高階模態的臨界增益,來壓制高階模的產生,進而提高單模的最大輸出功率。對於氧化孔徑為5 □m而為非單模的傳統面射型雷射結構而言,2.5 □m的擴散孔徑可提供最大的單模輸出功率,而大到4.5 □m的擴散孔徑尚可提供單模的光輸出。此一模擬分析結果驗證並提供可獲致單模輸出的新方法,用以改善原於傳統製程上極難控制以達成小尺寸氧化孔徑的限制。
URI: http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT009221514
http://hdl.handle.net/11536/75780
Appears in Collections:Thesis