標題: | 有機分子官能化的Si(111)表面 Organic Functionalization on Si(111) surface |
作者: | 林楹璋 Ying-Chang Lin 楊耀文 王念夏 Yaw-Wen Yang 應用化學系碩博士班 |
關鍵字: | 矽(111);表面;邊緣吸收光譜;同步輻射;Si(111);surface;NEXAFS;synchrotron radiation |
公開日期: | 2004 |
摘要: | 由共價鍵在矽表面上形成強鍵結的有機分子單層膜,可以在矽表面上任意改變矽表面的特性,使其具有鈍化、抗腐蝕或其他性質,以提供在化學、材料或生物的領域上有進一步的應用。 在本篇研究中,將討論藉由Grignard試劑在矽(111)表面上製成的有機分子單層膜的特性,以XPS能譜鑑定矽基材與有機分子薄膜的元素組成,確定製備的薄膜品質。再以角解析NEXAFS光譜測量有機分子在矽表面的排列位向,觀察這樣的分子單層膜,是否會如一般的自組裝薄膜一樣,藉由分子間的凡得瓦作用力,在表面上排列成規則有序的結構。而談論分子的有序規則排列,需以平坦的基材為前提,因此我們須先以STM測量表面平整度在每一個步驟前後的變化,才能確定討論的分子排列不受表面型態的變化所影響。 從實驗的結果中,我們首先發現這樣的製備方法並不會對矽單晶的表面型態造成變化。送入超高真空進行XPS實驗後,確定樣品表面的組成是均勻的有機分子單層膜;但在NEXAFS的結果中,由於角解析光譜的結果並未有顯著的差異,因此我們推測以Grignard試劑在矽(111)表面所製成的有機分子單層膜,其排列位向並沒有想像中如分子自組裝薄膜一樣的易於控制。 |
URI: | http://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT009225553 http://hdl.handle.net/11536/76841 |
顯示於類別: | 畢業論文 |