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dc.contributor.author莊英志en_US
dc.contributor.author李毅郎en_US
dc.date.accessioned2014-12-12T02:56:57Z-
dc.date.available2014-12-12T02:56:57Z-
dc.date.issued2005en_US
dc.identifier.urihttp://140.113.39.130/cdrfb3/record/nctu/#GT009323612en_US
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/79143-
dc.description.abstract近年來,隨著製程技術的進步越來越快速,造成了細胞函式庫也時常重新設計來符合新的製程技術。為了要重新利用設計過的細胞函式庫,因此一個有效的細胞自動遷移工具變的相對的重要。相關的研究以限制圖壓縮演算法與整數線性規劃為兩個主要的方法。傳統的限制圖壓縮演算法由於只考慮到空間利用度,因此會造成電路外型與拓墣順序的改變,這些改變可能造成原設計者需要耗費更多的時間來修正調整電路。雖然整數線性規劃雖然能夠維持電路外型與拓墣順序與原電路相同,但是卻必須耗費大量的運算時間。因此,本論文提出改良式以邊為基礎元件製程遷移演算法來改善傳統上兩個做法的缺點。zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.subject製程遷移zh_TW
dc.subjectmigrationen_US
dc.title改良式以邊為基礎元件製程遷移zh_TW
dc.titleImproved edge-based device migrationen_US
dc.typeThesisen_US
dc.contributor.department資訊科學與工程研究所zh_TW
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