完整後設資料紀錄
DC 欄位 | 值 | 語言 |
---|---|---|
dc.contributor.author | 潘扶民 | en_US |
dc.contributor.author | PAN FU-MING | en_US |
dc.date.accessioned | 2014-12-13T10:28:48Z | - |
dc.date.available | 2014-12-13T10:28:48Z | - |
dc.date.issued | 2007 | en_US |
dc.identifier.govdoc | NSC96-2221-E009-109-MY3 | zh_TW |
dc.identifier.uri | http://hdl.handle.net/11536/88630 | - |
dc.identifier.uri | https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=1431644&docId=255795 | en_US |
dc.description.abstract | 我們擬以自組裝陽極氧化鋁(anodic aluminum oxide, AAO)奈米孔道陣列作為版模,製作 奈米碳管與奈米尖錐等奈米結構材料,藉以研究奈米碳管等奈米結構材料在AAO 中的 生長特性,並開發AAO 版模技術做為奈米材料結構之製作平台。我們將利用以AAO 版模翻印成長的奈米結構材料陣列做為場發射源,研究不同奈米結構的電子場發射特 性,並結合IC 製程技術將AAO 孔道陣列製作於三極體結構中,探討其應用於場發射顯 示技術的可行性。依奈米材料種類與製程結構,我們將研究項目分為(一) 整合AAO 於 場發射三極體(triode)結構內,建立以AAO 版模製作奈米結構電子場發射材料的技術平 台,奈米碳管將是首要的研究對像;(二)在AAO-Triode 成長高品質的CNT 場發射源, 我們將進行CNT 發射源表面污染與AAO 基部-CNT 界面特性研究,藉以改善CNT 的製 程條件,成長高品質的CNT 場發射源;(三)以AAO 版模製作矽奈米尖錐場發射源,並 於其表面沉積高穩定性、低功函數的IrO2 與-C 薄膜,探討改質後Si 奈米尖錐場發射 特性。 | zh_TW |
dc.description.sponsorship | 行政院國家科學委員會 | zh_TW |
dc.language.iso | zh_TW | en_US |
dc.subject | 陽極氧化鋁 | zh_TW |
dc.subject | 奈米碳管 | zh_TW |
dc.subject | 場發射源 | zh_TW |
dc.subject | 矽奈米尖錐 | zh_TW |
dc.subject | 氧化銥 | zh_TW |
dc.subject | 非晶質碳 | zh_TW |
dc.subject | Anodic aluminum oxide | en_US |
dc.subject | AAO | en_US |
dc.subject | carbon nanotube | en_US |
dc.subject | field emitter | en_US |
dc.subject | IrO2 | en_US |
dc.subject | Si nanocone | en_US |
dc.subject | ?-carbon. | en_US |
dc.title | 以奈米孔陽極氧化鋁(AAO)版模法製作電子場發射奈米結構材料 | zh_TW |
dc.title | Fabrication of Nanostructure Field-Emitters Using Nanoporous Anodic Aluminum Oxide (AAO) as the Template | en_US |
dc.type | Plan | en_US |
dc.contributor.department | 國立交通大學材料科學與工程學系(所) | zh_TW |
顯示於類別: | 研究計畫 |