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dc.contributor.author潘扶民en_US
dc.contributor.authorPAN FU-MINGen_US
dc.date.accessioned2014-12-13T10:28:48Z-
dc.date.available2014-12-13T10:28:48Z-
dc.date.issued2007en_US
dc.identifier.govdocNSC96-2221-E009-109-MY3zh_TW
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11536/88630-
dc.identifier.urihttps://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=1431644&docId=255795en_US
dc.description.abstract我們擬以自組裝陽極氧化鋁(anodic aluminum oxide, AAO)奈米孔道陣列作為版模,製作 奈米碳管與奈米尖錐等奈米結構材料,藉以研究奈米碳管等奈米結構材料在AAO 中的 生長特性,並開發AAO 版模技術做為奈米材料結構之製作平台。我們將利用以AAO 版模翻印成長的奈米結構材料陣列做為場發射源,研究不同奈米結構的電子場發射特 性,並結合IC 製程技術將AAO 孔道陣列製作於三極體結構中,探討其應用於場發射顯 示技術的可行性。依奈米材料種類與製程結構,我們將研究項目分為(一) 整合AAO 於 場發射三極體(triode)結構內,建立以AAO 版模製作奈米結構電子場發射材料的技術平 台,奈米碳管將是首要的研究對像;(二)在AAO-Triode 成長高品質的CNT 場發射源, 我們將進行CNT 發射源表面污染與AAO 基部-CNT 界面特性研究,藉以改善CNT 的製 程條件,成長高品質的CNT 場發射源;(三)以AAO 版模製作矽奈米尖錐場發射源,並 於其表面沉積高穩定性、低功函數的IrO2 與-C 薄膜,探討改質後Si 奈米尖錐場發射 特性。zh_TW
dc.description.sponsorship行政院國家科學委員會zh_TW
dc.language.isozh_TWen_US
dc.subject陽極氧化鋁zh_TW
dc.subject奈米碳管zh_TW
dc.subject場發射源zh_TW
dc.subject矽奈米尖錐zh_TW
dc.subject氧化銥zh_TW
dc.subject非晶質碳zh_TW
dc.subjectAnodic aluminum oxideen_US
dc.subjectAAOen_US
dc.subjectcarbon nanotubeen_US
dc.subjectfield emitteren_US
dc.subjectIrO2en_US
dc.subjectSi nanoconeen_US
dc.subject?-carbon.en_US
dc.title以奈米孔陽極氧化鋁(AAO)版模法製作電子場發射奈米結構材料zh_TW
dc.titleFabrication of Nanostructure Field-Emitters Using Nanoporous Anodic Aluminum Oxide (AAO) as the Templateen_US
dc.typePlanen_US
dc.contributor.department國立交通大學材料科學與工程學系(所)zh_TW
顯示於類別:研究計畫