标题: 厚膜UBM之覆晶焊锡接点电迁移及焊锡电迁移临界长度之研究
Study of Electromigration of Clip-Chip Solder Joints with Thick UBMs and Critical Length of Electromigration for Solder
作者: 陈智
Chen Chih
交通大学材料科学与工程系
关键字: 电迁移;覆晶焊锡;微电子封装;Electromigration;Flip-chip Solder;Microelectronics Packaging
公开日期: 2006
摘要: 本计画预计在焊锡电迁移议题上作一有系统且深入的研究,包含厚膜
UBM 之覆晶焊锡接点电迁移以及焊锡电迁移临界长度(critical length)之研
究。本计划的第一年中,我们将制作不同长度的锡铅焊料合金锡膜,
求出临界值(critical product)、飘移速度(drift velocity)、DZ*值等重要之电迁
移参数。并针对SnPb 及SnAg 焊锡的覆晶凸块试片进行研究。首先建立厚
膜与薄膜UBM 之焊锡failure time 之资料,进而分析此他们的破坏模式。
本年度计画首要是在探讨出厚膜UBM 焊锡凸块其电迁移行为,来和薄膜
UBM 做比较。
第二年的研究将利用第一年所建立之技术来制作出SnCu、SnAg 与
SnAgCu 之solder stripe 进行无铅焊锡之研究。求出临界值(critical product)、
飘移速度(drift velocity)、DZ*值等重要之电迁移参数外。于真实solder bump
方面,将针对不同材料UBM 之厚膜UBM 焊锡接点进行研究。预计预计会
有Cu/Cu,Ni/Cu 之材料的厚膜UBM。然后再搭配Kelvin bump probes 的量
测方式来建立焊锡接点中,不同通电状态下之微结构变化之资料。
第三年的研究重点将改变原本Blech 试片结构中之湿润层,用Ni 垫层来取
代原本的Cu 垫层。藉以探讨当Ni 与焊锡形成Ni3Sn4 时将如何影响电迁
移之重要参数。另外,将针对不同Bump Height 之厚膜UBM 焊锡接点进
行研究,预定探讨出Volume effect 在焊锡接点中所带来的影响。同时我们
将以3D 电脑模拟来辅助研究电迁移破坏模式,研究在通电候不同阶段电
与热的重新分布。相信在三年后能在焊锡电迁移领域有很大的贡献。
官方说明文件#: NSC95-2221-E009-088-MY3
URI: http://hdl.handle.net/11536/89581
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=1238540&docId=228392
显示于类别:Research Plans