複晶矽表面平坦化之新穎製程技術與應用

標題:	複晶矽表面平坦化之新穎製程技術與應用 A Novel Process Technology for Poly-Si Surface Planarization and Its Application
作者:	崔秉鉞 Bing-YueTsui 國立交通大學電子工程學系
公開日期:	2003
官方說明文件#:	NSC92-2622-E009-006-CC3
URI:	http://hdl.handle.net/11536/92199 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=825779&docId=156317
Appears in Collections:	Research Plans

APA	崔., & B. (2003). 複晶矽表面平坦化之新穎製程技術與應用. https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=825779&docId=156317.
Bibtex	@article{2003, title={複晶矽表面平坦化之新穎製程技術與應用}, author={崔秉鉞 and Bing-YueTsui}, journal={https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=825779&docId=156317}, year={2003}, url={https://ir.lib.nycu.edu.tw/handle/11536/92199?locale=en}, }