實用銅膜之化學氣相沉積技術研究(I)

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	陳茂傑	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:34:20Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:34:20Z	-
dc.date.issued	2002	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC91-2215-E009-043	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/92657	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=784401&docId=150769	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.title	實用銅膜之化學氣相沉積技術研究(I)	zh_TW
dc.title	Study and Development of Practical Copper Film Deposition by CVD method (I)	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學電子工程系	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫