| 標題: | 實用銅膜之化學氣相沈積技術研究 Study and Development of Practical Copper Film Deposition by CVD Method |
| 作者: | 陳茂傑 交通大學電子工程系 |
| 關鍵字: | 化學氣相沈積法;銅膜;積體電路製造;CVD;Copper film;Integrated circuit fabrication |
| 公開日期: | 2001 |
| 官方說明文件#: | NSC90-2215-E009-096 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/94987 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=665788&docId=126395 |
| 顯示於類別： | 研究計畫 |
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