標題: 12吋矽晶圓半導體CVD製程設備及BST介電薄膜成長研究---子計畫I:12吋矽晶圓CVD製程設備的加熱及成長BST薄膜之進氣系統設計與反應爐系統整合(III)
Design of Heating Assembly and Gas Feeding Unit for BST Thin Film Growth and Integration of CVD Reactor System for a 12-inch Single Silicon Wafer (III)
作者: 林清發
LIN TSING-FA
交通大學機械工程研究所
公開日期: 2002
官方說明文件#: NSC91-2212-E009-039
URI: http://hdl.handle.net/11536/92872
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=783002&docId=150397
顯示於類別:研究計畫