193奈米微影解像度增進技術---高透射率嵌附層之研製、應用探討與模擬

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DC 欄位	值	語言
dc.contributor.author	龍文安	en_US
dc.contributor.author	Loong Wen-an	en_US
dc.date.accessioned	2014-12-13T10:34:53Z	-
dc.date.available	2014-12-13T10:34:53Z	-
dc.date.issued	2002	en_US
dc.identifier.govdoc	NSC91-2215-E009-064	zh_TW
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11536/93058	-
dc.identifier.uri	https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=784474&docId=150790	en_US
dc.description.sponsorship	行政院國家科學委員會	zh_TW
dc.language.iso	zh_TW	en_US
dc.title	193奈米微影解像度增進技術---高透射率嵌附層之研製、應用探討與模擬	zh_TW
dc.title	193 nm Resolution Enhancement Techniques---Fabrication, Application Study and Simulation of High Transmittance Embedded Layers	en_US
dc.type	Plan	en_US
dc.contributor.department	交通大學應用化學系	zh_TW
顯示於類別：	研究計畫