標題: 不同型摻雜材料浮動閘極快閃式記憶元件可靠性問題之研究
A Study on the Reliability Issues of Flash EEPROM with Different Floating Gate Materials
作者: 莊紹勳
Chung Steve S
國立交通大學電子工程學系
關鍵字: 快閃式記憶體;可靠度;浮動閘;資料持久力;氧化層傷害;Frash memory;Reliability;Floating gate;Data retention;Oxide damage
公開日期: 2000
官方說明文件#: NSC89-2218-E009-110
URI: http://hdl.handle.net/11536/93274
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=619835&docId=115468
顯示於類別:研究計畫


文件中的檔案:

  1. 892218E009110.pdf

若為 zip 檔案,請下載檔案解壓縮後,用瀏覽器開啟資料夾中的 index.html 瀏覽全文。