| 標題: | 超高真空化學氣相沉積低溫新穎複晶矽薄膜電晶體之製作與可靠度分析---子計畫三：超高真空化學氣相沈積新穎複晶矽薄膜電晶體之低溫閘極介電層與新結構之研究(III) The Fabrication and Reliability of Low Temperature Novel UHVCVD Poly-Si TFTs(III) |
| 作者: | 張俊彥 CHANG CHUN-YEN 國立交通大學電子工程學系 |
| 公開日期: | 2000 |
| 官方說明文件#: | NSC89-2218-E009-086 |
| URI: | http://hdl.handle.net/11536/93563 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=597413&docId=112581 |
| 顯示於類別： | 研究計畫 |
