标题: | 复晶矽薄膜电晶体相关技术之开发---子计画二:高品质复晶矽薄膜电晶体介电绝缘层之研究(III) Study of High-Quality Dielectrics of Polysilicon Thin Film Transistors (III) |
作者: | 叶清发 交通大学电子工程系 |
关键字: | 复晶矽;液相沈积;离子披覆;保护层;薄膜电晶体;Polysilicon;Liquid-phase deposition;Ion plating;Passivation layer;Thin film transistor |
公开日期: | 1998 |
官方说明文件#: | NSC87-2215-E009-048 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/95072 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=409164&docId=72450 |
显示于类别: | Research Plans |