标题: 复晶矽薄膜电晶体相关技术之开发---子计画二:高品质复晶矽薄膜电晶体介电绝缘层之研究(III)
Study of High-Quality Dielectrics of Polysilicon Thin Film Transistors (III)
作者: 叶清发
交通大学电子工程系
关键字: 复晶矽;液相沈积;离子披覆;保护层;薄膜电晶体;Polysilicon;Liquid-phase deposition;Ion plating;Passivation layer;Thin film transistor
公开日期: 1998
官方说明文件#: NSC87-2215-E009-048
URI: http://hdl.handle.net/11536/95072
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=409164&docId=72450
显示于类别:Research Plans