標題: 以雷射技術研究大氣化學之重要分子---(1)氟氯烷取代物研究---與OH之反應速率(2)硫化物氧化研究---CH/sub 3/S與O/sub 3/之反應速率
(1) Freon Substitutes---Reaction Rates with OH (2)Oxidation of Sulfur Compounds---Reaction Rate of CH/sub 3/S+O/sub 3/
作者: 王念夏
WANG NIANN SHIAH
交通大學應用化學系
關鍵字: 氟氯烷取代物;反應速率;甲硫基;臭氧;Freon substitute;Reaction rate;Methyl sulfur;Ozone
公開日期: 1997
官方說明文件#: NSC86-2113-M009-013
URI: http://hdl.handle.net/11536/95415
https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=274248&docId=49072
顯示於類別:研究計畫