以石英或玻璃為基片之二元微透鏡的設計與製作

Abstract

本計劃將利用純量繞射理論來設計反射式二元光學繞射元件，並利用製造穿透式二元光學繞射元件的半導體製程技術 活性離子蝕刻 ( reactive ion etching ; 簡稱RIE ) 技術來製造反射式二元光學繞射元件。計算出固定孔徑下，入、反射角度所對應的最小環帶寬度，以及分析製程誤差所引入的繞射效率變化。建立量測反射式二元光學繞射元件之光強分布及繞射效率的量測系統，並對製造出的八階反射式二元光學繞射元件進行效能的量測，並將結果與理論計算值相比對。