標題: | 分子化合物合成無機材料之新方法(I) New Molecular Routes to Inorganic Materials (I) |
作者: | 裘性天 CHIU HSIN-TIEN 交通大學應用化學系 |
關鍵字: | 過渡金屬有機亞胺類化合物;過渡金屬氮化合物;聚矽有機金屬;化學氣相沈積;金屬氮化物薄膜;金屬氮化物粉末;金屬氧化物粉末;碳化矽薄膜;前驅物;分解;Transition metal organoimido complex;Transition metal nitrido complex;Organopolysilane;Chemical vapor deposition;Metal nitride thin film;Metal nitride powder;Metal oxide powder;Silicon carbide thin film;Precursor;Decomposition |
公開日期: | 1997 |
摘要: | 本計畫將繼續本研究室之研究, 嘗試以分子化合物為前驅物,合成無機材料. 重點有以下列四點:一. 合成及鑑定新化合物, 以可能成做無機材料前驅物者為目標.如含第五及六族過渡金屬-氮雙鍵之有機亞�類錯合物及金屬-氮參鍵之氮化合物,多矽有機金屬化合物等等.二. 從新合成之錯合物中選擇較合適者以為化學氣相沉積反應之前驅物,以成長薄膜. 如金屬氮化物, 氧化物, 碳化物薄膜等等.三. 嘗試以分子化合物為前驅物, 合成無機粉末材料.四. 化學氣相沉積中所產生的氣體產物之分析,以進一步瞭解前驅物分解之反應途徑. |
官方說明文件#: | NSC86-2113-M009-003 |
URI: | http://hdl.handle.net/11536/95546 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=270240&docId=48083 |
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