薄膜超導元件的研製與特性探討---子計畫V：雷射鍍膜法中臨場監控超導薄膜生長之研究(II)

標題:	薄膜超導元件的研製與特性探討---子計畫V：雷射鍍膜法中臨場監控超導薄膜生長之研究(II) In-situ Monitoring of Superconducting Film Growth in Pulsed Laser Deposition (Ⅱ)
作者:	吳光雄 WU KAUNG-HSIUNG 交通大學電子物理系
關鍵字:	臨場監控;超導薄膜成長;反射式高能電子繞射儀;脈衝雷射蒸鍍;in situ monitoring;Superconducting thin film growth;Reflective high energy electron diffraction (RHEED);Pulsed laser deposition (PLD)
公開日期:	1997
官方說明文件#:	NSC86-2112-M009-031
URI:	http://hdl.handle.net/11536/95601 https://www.grb.gov.tw/search/planDetail?id=287921&docId=52354
顯示於類別：	研究計畫